Inovativna krema proti nepopolnosti kože, z močnim čistilnim učinkom na maščobe in nečistoče kože. Na osnovi azelainske kisline in ekstraktov propolisa izboljša videz kože in čisti pore.
Uporaba: nanesite na določena območja in masirajte za popolno absorpcijo.
INGREDIENTS : Aqua (Water), Ethylhexyl Palmitate, Cetearyl Alcohol, Cetearyl Isononanoate, Propylene Glycol, Cera Alba (Beeswax), Triticum Vulgare (Wheat) Germ Oil, Ceramide Np, Citrus Limon (Lemon) Peel Oil, Citrus Nobilis (Mandarin Orange) Peel Oil, Decylene Glycol, Dioscorea Villosa (Wild Yam) Root Extract, Glycyrrhiza Glabra (Licorice) Root Extract, Hydrogenated Lecithin, Niacinamide, Phenylpropanol, Phytosterols, Propolis Extract, Pyridoxine Hcl, Rosmarinus Officinalis (Rosemary) Extract, Salvia Sclarea (Clary) Oil, Soy Isoflavones, Talc, Eucalyptus Globulus Leaf Oil, Hedera Helix (Ivy) Extract, Lavandula Angustifolia (Lavender) Oil, Rosmarinus Officinalis (Rosemary) Leaf Oil, Azelaic Acid, Glycerin, Glycine Soja (Soybean) Oil, Lecithin, Limonene, Linalool, Potassium Palmitoyl Hydrolyzed Wheat Protein, Squalane, Caprylic/Capric Triglyceride, Caprylyl Glycol, Dicaprylyl Ether, Zinc PCA, Glyceryl Stearate, Butyrospermum Parkii (Shea) Butter, Sodium Polyacrylate, Pentylene Glycol, Citric Acid, Sodium Hydroxide, Tetrasodium Glutamate Diacetate, Tocopherol, Ascorbyl Palmitate, Citral
| Teža | 0,091 kg |
|---|
Podobni izdelki
Sensitive Mask je nežna obrazna maska za občutljivo kožo, nagnjeno k kuperozi.
Ta izdelek ima več različic. Možnosti lahko izberete na strani izdelka
Destress kit omogoča sinergično delovanje dveh formulacij ter poveča funkcionalno aktivnost vitamina C, kar naredi kožno kompaktno, kot noben drug izdelek.
